在高真空鍍膜設備系統中，特別是超高真空鍍膜系統工藝中，將氣體從構成真空材料中放出并排除掉是決定鍍膜效果的關鍵因素。在所有超高真空條件下，器壁表面實際上并未與環境氣體處于平衡狀態，而是覆蓋著一層可凝性氣體，其含量大大超過平衡狀態下的含量，所以在超高真空區域，器壁的放氣率只取決于抽氣時聞和表面的經歷，而與系統的總壓力無關。通常不銹鋼超高真空系統的極限烘烤濕度為440LC左右，但是某些試驗研究表明：在系統的除氣過程中，烘烤溫度不需要特別嚴格規定，而系統各處溫度的均勻性要比烘烤溫度重要的多。最好的方法是盡可能均勻地烘烤整個系統，而烘烤溫度在150～250℃比較合適。均勻烘烤40 min的小型真空鍍膜機中保留著不同比例的未烘烤部分對系統極限壓所產生的影響(烘烤溫度為300。C)。保留的未烘烤的表面積雖然僅占整個系統的百分之幾，但對系統的最終壓力的影響卻很大。如果在真空系統內部的某種材料不能承受1 5 O℃的溫度或者某些重要部件的熱膨脹能引起麻煩時，就應選擇較低的烘烤溫度，但一定要對系統所有的部件都要盡可能地均勻烘烤，而且烘烤所持續的時間應加長。如果系統表面上附有高結合能的物質，則需要較高的烘烤溫度才能有比較理想的放氣率。當無法對系統整體進行均勻烘烤，例如，當真空室內裝有熱容 量大的法蘭或有絕熱的裝置時，對它們進行均勻烘烤十分困難，則需要選擇較高的烘烤溫度。出自匯成真空鍍膜設備http://www.suichenggd.cn/

2013-7-30